行业新闻

制药厂 / 实验室专用：jing密恒温恒湿机组应用

2026 年 5 月 15 日 75

冠亚恒温小编为大家介绍jing密恒温恒湿机组在制药厂与实验室的应用。制药厂与实验室对环境温湿度、洁净度要求较高，温湿度波动会影响药品质量与实验结果，该机组以稳定的温湿度控制与洁净送风特性，适配这类场所的环境控制需求。

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材料老化测试中的SUNDI高低温循环一体机

2026 年 5 月 15 日 82

无锡冠亚SUNDI高低温循环一体机可用于材料老化测试、热沉板控温、测试平台控温和腔体温度管理，支持-120℃~350℃温度范围，可根据被测件参数和测试条件进行配置。

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萃取工艺配套冠亚SUNDI系列高低温一体机的温控方案

2026 年 5 月 14 日 94

萃取工艺常用于化工、制药、新材料、天然产物分离、精细化工实验等领域。萃取过程中，温度会影响溶剂溶解能力、分配系数、相分离速度、传质效率以及物料稳定性。对于热敏性物料、低沸点溶剂或需要控制挥发的工艺，温度变化还可能影响萃取过程的重复性。因此，在萃取...

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半导体测试冰水机的结构特点与长期运行的适用性分析

2026 年 5 月 13 日 74

在半导体测试车间或实验室环境中，温控设备往往不是作为一次性试用工具，而是作为长期参与各类研发与质检项目的常备基础设施。无锡冠亚恒温制冷技术有限公司推出的半导体测试冰水机，在结构设计上融合了全密闭系统、双循环泵架构以及管道式循环管路设计。这些结构特...

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多介质适配：常温高jing度系列设备技术解析

2026 年 5 月 13 日 79

高jing密制造场景中，不同制程对循环介质的电导率、腐蚀性、洁净度等要求存在差异，该系列设备支持氟化液、乙二醇水溶液、纯净水、DI 水等多种介质，可根据工艺需求灵活选择，适配不同制程的温控需求。

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半导体光刻配套：常温高精度 CHILLER 应用

2026 年 5 月 13 日 76

光刻是半导体制造的核心环节，过程中对设备温度的稳定性、均匀性有着明确要求，温度波动会直接影响光刻胶的曝光效果，进而影响芯片关键尺寸，常温高精度系列 CHILLER 设备以 ±0.005℃的控温精度，适配光刻工艺的温控需求。

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全密闭循环设计在半导体封装测试高低温循环机中的应用与特点

2026 年 5 月 12 日 90

在半导体制造与测试环境中，温控设备往往需要在较为严苛的条件下保持长期稳定的运行状态。尤其是在涉及深冷（如-100℃）或高温工况时，循环介质与外界环境的交互程度，直接关系到设备能否持续、可靠地提供所需的温控能力。无锡冠亚恒温制冷技术有限公司在半导体封装测...

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锂电生产超纯水冷却：CHILLER 制冷循环器说明

2026 年 5 月 12 日 81

锂电生产过程中，ji片涂布、电解液存储、化成测试等环节需稳定冷却，超纯水冷却可避免杂质污染与电气风险。

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光伏电池片清洗：超纯水温控系列应用

2026 年 5 月 12 日 87

光伏电池片清洗是提升光电转换效率的重要工序，需去除表面油污、颗粒及金属杂质，超纯水的温度与洁净度直接影响清洗效果。

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±0.1℃控温jing度：超纯水温控系列技术特点

2026 年 5 月 11 日 84

控温jing度是超纯水温控系列 CHILLER 制冷循环器的核心技术指标，该系列设备标准控温jing度为 ±0.1℃，可定制 ±0.01℃高jing度配置，通过多项技术优化实现稳定控温，适配半导体等行业对温度稳定性的严苛要求。

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