半导体温控装置Chiller 主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度jing准控制，控温范围：-100℃～+90℃；控温精度：±0.01℃。公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），实现系统快速响应、较高的控制精度。

chiller 的排吸气温度（压力）、冷凝温度、冷却水温度（压力）、进出液体（气体）温度（压力）、用电功率、各部件电流、电压、水箱液位等重要信息均通过传感器接入控制系统进行quan面管理监控记录。

原理：CHILLER 高精度系列设备集成蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统，进行制冷加热，可实现高精度控温，适用于光刻机、涂胶显影设备等领域制冷加热控温。

核心技术与优势：
1.高精度控温：
采用PID算法或PLC控制，实现温度波动≤±0.005℃，适用于高精密制造场景。
2.多场景适配：
支持氟化液、乙二醇水溶液、DI水等不同介质使用。

多通道独⽴控温，可以具备单独的温度范围、冷却加热能⼒、导热介质流量等，采⽤独⽴的两套系统，根据所需的温度范围选择采⽤蒸汽压缩制冷，或者采⽤ETCU⽆压缩机换热系统，系统可通⽤膨胀罐、冷凝器、冷却⽔系统等，可以有效减少设备尺⼨，减少操作步骤。

高效节能：变频压缩机组通过内置变频装置随时根据用户冷热负荷需求改变直流压缩机的运行转速，从而避免压缩机与电加热满负荷对抗，保持机组稳定的工作状态。
快速制冷：变频机组采用先进的变频技术，精确控制压缩和风机运行转速，通过电子膨胀阀智能调节，快速制冷。
超低噪音：变频机组采用变频涡旋或双转子压缩机，大大降低回旋不平衡度，使机组的振动非常小，约为常规压缩机的1/2，结合多重降噪措施，极度安静。
环境适应性高：变频机组采用低频启动，启动电流小，对电网冲击小。对电压的适应性较强，可宽电压范围下启动。
寿命长：变频机组不会频繁启停，有效降低机组启停时的损耗，延长机组寿命。

本设备的研发⽬的是开发⼀种专⽤高温控温的Chiller，用来满足半导体⾼温测试需求。

创新点：介质温度最高可达250℃；以特殊的⼯艺方式，保证系统高温⼯况下的控温精度。

Chiller是由紧密耦合的制冷循环与介质循环两大核心系统构成，通过两个循环通道间的介质高效换热，实现对目标设备的精准、稳定温度控制。

原理：制冷剂在系统中循环，通过压缩、冷凝、节流和蒸发四个过程实现制冷；同时，载冷剂（介质）在独立的循环管路中流动，通过板换换热器将冷量持续输送给目标设备，并循环使用。

Chiller是由紧密耦合的制冷循环与介质循环两大核心系统构成，通过两个循环通道间的介质高效换热，实现对目标设备的精准、稳定温度控制。

原理：制冷剂在系统中循环，通过压缩、冷凝、节流和蒸发四个过程实现制冷；同时，载冷剂（介质）在独立的循环管路中流动，通过板换换热器将冷量持续输送给目标设备，并循环使用。

冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃，专为半导体行业度身定制；
基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制；
对于静电卡盘(ESC)动态的温度控制，使得其能够应用于所有类型的刻蚀工艺；
快速和jing确的温度控制，能够满足任何严苛的工艺要求；

负压型控温系统通过负压环境下的流体循环实现jing准温度控制，原理：通过负压发⽣器驱动导热介质（⽔/油）循环，避免泄漏风险，适用于各种类型板卡冷却。