行业新闻

微通道反应器的稳定温控方案——SUNDI系列连续流控温机组技术解析

2026 年 5 月 18 日 3

SUNDI连续流控温机组可用于微通道反应器、连续流平台和组合化学实验控温，支持-120℃~350℃温度范围，适用于升温、降温和恒温控制。

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±0.1℃控温精度：芯片老化测试箱温控特点

2026 年 5 月 18 日 2

冠亚恒温小编为大家说明芯片老化测试箱的 ±0.1℃控温精度特点。芯片老化测试对环境温度的稳定性要求较高，温度波动会直接影响测试结果的准确性，设备通过多项技术优化，实现出风口控温精度 ±0.1℃，温度均匀度≤±3℃，保障测试环境温度的稳定性。

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宽温域芯片测试：GD 系列老化测试箱解析

2026 年 5 月 18 日 1

冠亚恒温小编为大家解析 GD 系列老化测试箱的宽温域芯片测试能力。半导体芯片在实际使用中可能面临从低温到高温的宽温域环境，GD 系列设备通过不同型号的温度区间配置，覆盖常温至 + 150℃、-20℃至 + 150℃、-40℃至 + 150℃三个温度范围，适配不同芯片的宽温域测试需求。

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洁净型箱体设计：jing密恒温恒湿机组防污染特性说明

2026 年 5 月 15 日 8

冠亚恒温小编为大家说明jing密恒温恒湿机组的洁净型箱体设计与防污染特性。在制药、半导体、实验室等行业，环境洁净度直接影响产品质量与实验结果，机组的洁净型箱体设计可减少二次环境污染，保障送风洁净度，适配高洁净度场所的需求。

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制药厂 / 实验室专用：jing密恒温恒湿机组应用

2026 年 5 月 15 日 6

冠亚恒温小编为大家介绍jing密恒温恒湿机组在制药厂与实验室的应用。制药厂与实验室对环境温湿度、洁净度要求较高，温湿度波动会影响药品质量与实验结果，该机组以稳定的温湿度控制与洁净送风特性，适配这类场所的环境控制需求。

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材料老化测试中的SUNDI高低温循环一体机

2026 年 5 月 15 日 13

无锡冠亚SUNDI高低温循环一体机可用于材料老化测试、热沉板控温、测试平台控温和腔体温度管理，支持-120℃~350℃温度范围，可根据被测件参数和测试条件进行配置。

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萃取工艺配套冠亚SUNDI系列高低温一体机的温控方案

2026 年 5 月 14 日 16

萃取工艺常用于化工、制药、新材料、天然产物分离、精细化工实验等领域。萃取过程中，温度会影响溶剂溶解能力、分配系数、相分离速度、传质效率以及物料稳定性。对于热敏性物料、低沸点溶剂或需要控制挥发的工艺，温度变化还可能影响萃取过程的重复性。因此，在萃取...

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半导体测试冰水机的结构特点与长期运行的适用性分析

2026 年 5 月 13 日 15

在半导体测试车间或实验室环境中，温控设备往往不是作为一次性试用工具，而是作为长期参与各类研发与质检项目的常备基础设施。无锡冠亚恒温制冷技术有限公司推出的半导体测试冰水机，在结构设计上融合了全密闭系统、双循环泵架构以及管道式循环管路设计。这些结构特...

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多介质适配：常温高jing度系列设备技术解析

2026 年 5 月 13 日 17

高jing密制造场景中，不同制程对循环介质的电导率、腐蚀性、洁净度等要求存在差异，该系列设备支持氟化液、乙二醇水溶液、纯净水、DI 水等多种介质，可根据工艺需求灵活选择，适配不同制程的温控需求。

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半导体光刻配套：常温高精度 CHILLER 应用

2026 年 5 月 13 日 12

光刻是半导体制造的核心环节，过程中对设备温度的稳定性、均匀性有着明确要求，温度波动会直接影响光刻胶的曝光效果，进而影响芯片关键尺寸，常温高精度系列 CHILLER 设备以 ±0.005℃的控温精度，适配光刻工艺的温控需求。

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