半导体光刻配套：常温高精度 CHILLER 应用

2026 年 5 月 13 日行业新闻半导体chiller130

冠亚恒温小编为大家介绍常温高精度 CHILLER 在半导体光刻配套中的应用。光刻是半导体制造的核心环节，过程中对设备温度的稳定性、均匀性有着明确要求，温度波动会直接影响光刻胶的曝光效果，进而影响芯片关键尺寸，常温高精度系列 CHILLER 设备以 ±0.005℃的控温精度，适配光刻工艺的温控需求。

该系列设备温度范围为 + 15℃至 + 25℃，可满足光刻设备对常温区间的温控需求，出口控温精度 ±0.005℃，可定制更高精度配置，减少温度波动对光刻工艺的影响。制冷量 @20℃覆盖 2.5kW 至 25kW，可根据光刻设备的热负荷需求选择适配型号，保障冷量供给稳定。

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介质适配方面，设备支持氟化液、DI 水等介质，其中 DI 水可满足微电子领域对低电导率的要求，适配光刻工艺对介质洁净度的需求。介质流量压力为 15LPM@3bar 至 30LPM@5bar，介质接口涵盖 Rc1/2、Rc3/4 等规格，可匹配光刻设备的管路接口与流量需求。

控制模式采用本体出液口温度控制模式，可选工件负载温度控制，工艺工程温度控制可根据自创无模型自建树算法和串级算法结合，控制工件目标温度，实现动态控温，减少温度偏差对光刻工艺的影响。设备采用 PID 算法或 PLC 控制，实现温度波动≤±0.005℃，保障光刻过程中温度稳定。

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在光刻设备配套中，该系列设备可为光刻机的光学系统、晶圆台提供稳定的冷却介质，控制设备运行温度，避免温度过高或波动导致的设备性能偏差。设备的安全防护配置适配半导体车间运行规范，具备多种保护功能，实时监测设备运行状态，异常时自动报jing并停机，保障设备与光刻设备的安全运行。通讯方面，支持多种协议，可接入车间自动化控制系统，实现远程监控与参数调整，适配半导体产线的自动化运行需求。

常温高精度系列 CHILLER 设备以高精度控温、多介质适配与稳定运行的特性，为半导体光刻工艺提供了可靠的温控支持，保障光刻工艺的稳定运行。