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多通道独立温控:面板 CHILLER 系列技术特点有哪些?

行业新闻 面板 CHILLER 系列2120

冠亚恒温小编为大家讲解冠亚恒温研发的面板CHILLER系列,该系列是冠亚专为面板制程设计的专用温控设备,包含单通道、双通道、三通道、四通道多种型号,适配薄膜沉积、刻蚀、OLED真空镀膜、Micro-LED热量转移、激光加工等面板工艺环节,核心优势在于多通道独立温控,以下详细解析该系列的核心技术特点。

多通道独立温控:面板 CHILLER 系列技术特点有哪些? - 面板 CHILLER 系列(images 1)

多通道独立温控是该系列的核心技术特点,设备采用1-loop、2-loop、3-loop、4-loop独立通道设计,各通道之间互不干扰,可分别控制不同工艺环节的温度,适配面板制程中不同工位的差异化温控需求。以四通道型号为例,CH1、CH2通道温度范围为-20℃~+90℃,CH3、CH4通道温度范围为+30℃~+120℃,各通道可独立设定温度参数。

各通道均配备独立的循环系统与控制模块,控温精度可达±0.1℃,部分型号可达到±0.01℃,温度波动小,能够满足面板制程对温度一致性的严格要求。技术配置方面,该系列设备的温度范围整体覆盖-20℃~+120℃,冷却能力与加热能力随型号不同进行调整,适配不同工艺环节的冷热负荷需求。其中,单通道型号冷却能力21kW@25℃,加热能力2kW;双通道型号冷却能力35kW@5℃,加热能力4kW;三通道型号冷却能力30kW@10℃,加热能力38kW;四通道型号CH1、CH2冷却能力12kW@10℃,CH3、CH4冷却能力5kW@30℃。

多通道独立温控:面板 CHILLER 系列技术特点有哪些? - 面板 CHILLER 系列(images 2)

介质适配方面,冠亚研发的面板CHILLER系列支持DI WATER、乙二醇水溶液、氟化液HT-170等多种介质,可根据面板工艺的具体需求选择适配介质。其中,氟化液损耗量低,设备采用闭式循环系统,可减少氟化液高温挥发,适配对介质稳定性要求高的面板工艺。设备采用全变频技术,结合压缩机余热回收设计,可you效降低能耗,同时设备体积小巧,多通道整合设计能够you效节约车间安装空间,适配面板产线的布局需求。

安全与通讯配置上,该系列设备具备完善的安全保护功能,包含压缩机、循环泵、加热器等热过载保护,电源过电流、欠压、缺相保护,低流量、低液位保护等,可you效保障设备运行安全。通讯方面,支持MODBUS RTU/TCP协议或ETHERCAT、LONWORKS等通讯协议,可接入产线自动化系统,实现远程监控与参数调整,适配面板制程的自动化生产需求。

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