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工业gao端制造与jing密测试场景,如半导体超低温工艺、航空电子部件冷却、特种材料低温加工、jing密仪器超低温冷却等,常需 – 80℃至 + 50℃的超低温冷却环境,对设备的超低温输出稳定性与控温jing度要求ji高。FLTZ -80~+50℃制冷循环器,依托复叠制冷技术,可稳定输出超低温冷量,适配工业超低温冷却需求。

该设备温度范围覆盖 – 80℃至 + 50℃,控温jing度 ±0.1℃,可定制 ±0.01℃高jing度配置,满足超低温工业工艺对温度稳定性的严苛要求。制冷量 @-55℃为 1kW 至 10.2kW,制冷量 @-70℃为 0.6kW 至 8kW,加热能力 1.5kW 至 11kW,可适配不同热负荷的超低温工业场景,保障冷却效率与温度稳定性。采用复叠制冷系统,通过两级压缩实现超低温冷量输出,配备自动化霜装置,减少长时间运行中的结霜问题,保障设备连续运行。
结构上采用全密闭循环设计,搭配高密封接头与加厚保温层,降低介质挥发与冷量损耗,提升运行效率。循环介质选用高纯度氟化液,具备低冰点、绝缘性好、化学稳定性强的特点,在 – 80℃超低温环境下仍可保持良好流动性,保障循环换热效率,同时避免介质冻结或腐蚀工业产品。介质流量 15LPM 至 35LPM,压力 0.3MPa 至 0.5MPa,可匹配工业超低温设备的管路规格与流量需求。

在工业超低温冷却应用中,该设备可用于半导体材料低温电学性能测试、超导器件低温特性研究、jing密电子元件冷冲击实验、航空电子部件超低温环境模拟、纳米材料低温结构分析等。动态控温算法结合 PID 与无模型自建树算法,可快速调节制冷功率,减少超低温环境下的温度波动,保障工业生产数据的准确性与重复性。设备支持温度曲线编程,可设置多段升降温速率与恒温时长,满足复杂超低温工业工艺的温度模拟需求。
操作与安全配置适配工业场景,采用 10 寸彩色触摸屏,支持参数设置、运行曲线实时显示、工业生产数据存储与导出,便于生产过程监控与结果分析。安全防护包含超低温超限保护、压缩机过载保护、介质泄漏报jing、真空度监控、过热保护等,实时监测设备运行状态,异常时自动停机报jing,保障工业生产过程与产品安全。通讯支持 ETHERCAT、MODBUS 等协议,可对接工业自动化系统,实现生产过程的远程监控与数据同步。

water Chiller product & project 核心技术与优势:1、洁净度高:内置过滤器能有效防止水垢生成,从源头降低游离离子污染,保护冷却系统核心部件,显著提升运行效率;同时降低冷却水电导率,防止电流泄漏,避免对精密电子元件或加工过程造成电化学干扰。2、控温精准:采用智能算法,实现系统动态温度快速响应、控制精度±0.1℃(可选配±0.01℃),具有良好的温…
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product & project 高效节能:变频压缩机组通过内置变频装置随时根据用户冷热负荷需求改变直流压缩机的运行转速,从而避免压缩机与电加热满负荷对抗,保持机组稳定的工作状态。快速制冷:变频机组采用先进的变频技术,精确控制压缩和风机运行转速,通过电子膨胀阀智能调节,快速制冷。超低噪音:变频机组采用变频涡旋或双转子压缩机,大大降低回旋不平衡度,使机…
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全氟聚醚油常温下为无色透明的油状液体,耐高温、耐化学腐蚀、抗氧化、抗辐射,主要用作润滑油、真空泵油,由于具有高的稳定性、安全性,特别是在尤为苛刻条件下工作时所表现的高度可靠性
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product & project 应用:CHILLER高温系列主要应用与薄膜沉积领域,适用于CVD、PECVD、MOCVD等需要带走高温热量的工艺制程中,满足半导体高温测试需求。核心技术与优势:1、高温范围宽:出口温度最高可达300℃。2、控温精准:采用智能算法,实现系统动态温度快速响应、控制精度±0.1℃(可选配±0.01℃),具有良好的温度跟随性。3、节约能耗:采用变频自适应调节、…
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product & project 冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃,专为半导体行业度身定制; 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理,帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制; 对于静电卡盘(ESC)动态的温度控制,使得其能够应用于所有类型的刻蚀工艺; 快速和精确的温度控制,能够满足任何严苛的工艺要求; 高效…
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product & project 面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等,支持⼤流量⾼负载,确保恶劣工况下持续稳定运行;支持冷却⽔动态调节系统,可根据环境温度与设备热负荷,实时调节⽔温。采用变频智能节能控制,减少无效能耗;全自动补液与⽔质管理,缺液时⾃动补液;符合三通道工艺设计要求,确保信号/流体的独立传输与精准控制。 25000㎡…
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product & project 原理:CHILLER 高精度系列设备集成蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统,进行制冷加热,可实现高精度控温,适用于光刻机、涂胶显影设备等领域制冷加热控温。核心技术与优势:1.高精度控温:采用PID算法或PLC控制,实现温度波动≤±0.005℃,适用于高精密制造场景。2.多场景适配:支持氟化液、乙二醇水溶液、DI水等不同介质使用。 25…
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product & project 多通道独⽴控温,可以具备单独的温度范围、冷却加热 能⼒、导热介质流量等,采⽤独⽴的两套系统,根据所需 的温度范围选择采⽤蒸汽压缩制冷,或者采⽤ETCU⽆ 压缩机换热系统,系统可通⽤膨胀罐、冷凝器、冷却⽔系 统等,可以有效减少设备尺⼨,减少操作步骤。 25000㎡生产车间 超3亿年产值 16000+服务客户提…
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