半导体薄膜沉积直冷机多场景自适应温控技术与规模化生产解决方案

2025 年 7 月 17 日新闻中心行业新闻水冷却机组薄膜沉积直冷机320

　　在半导体制造领域，温控设备的适应性与扩展性直接影响生产效率与工艺稳定性。薄膜沉积直冷机作为关键温控设备之一，其模块化设计通过功能单元的标准化、单独化配置，实现了对不同生产场景的灵活适配。

　　薄膜沉积直冷机的模块化架构主要由制冷循环模块、加热模块、循环液输送模块、控制模块及辅助功能模块构成，各模块通过标准化接口实现机械与电气连接。制冷循环模块采用压缩机、冷凝器、蒸发器等核心部件集成设计，可根据制冷量需求选择单压缩机或多压缩机组合方案，单个压缩机通过多级复叠技术即可实现较宽的温度范围覆盖。加热模块与制冷模块单独设置，通过压缩机热气加热或电加热方式实现循环液升温，两种加热方式可通过模块切换实现灵活适配。

　　循环液输送模块以变频泵为核心设备之一，搭配流量传感器与压力控制组件，可根据不同负载需求调节循环液流量与压力。控制模块采用PLC可编程控制器，集成触摸屏操作界面、数据存储与通讯单元，通过标准化程序接口实现与其他模块的联动控制。辅助功能模块包括过滤单元、排气单元、安全保护单元等，可根据工艺需求选择性配置，形成完整的温控系统。

　　模块化设计的核心优势在于功能单元的单独运行与快速替换能力。当某一模块出现故障时，无需停机检修整个系统，仅需更换备用模块即可恢复运行，大幅缩短故障处理时间。循环液输送模块采用双泵冗余设计，主泵故障时备用泵可在短时间内切换投入使用，保障循环液供应不中断。

　　在半导体光刻工艺中，不同尺寸晶圆的曝光设备对温控精度与流量需求存在差异。直冷机可通过更换不同功率的制冷模块与循环泵模块，实现从低流量高精度到高流量稳定输出的灵活切换。针对光刻胶涂覆工艺的恒温需求，可配置高精度温度传感器与PID调节模块，将温度波动控制在很小范围；而对于显影环节的快速降温需求，则可增加辅助制冷模块，提升系统的制冷响应速度。

　　在半导体封装测试环节，不同芯片类型的测试环境对温度范围要求不同。直冷机可通过组合不同温度范围的制冷模块，实现从低温到中高温的全覆盖。针对射频芯片的高温测试，可配置高温加热模块与耐腐蚀循环管路；针对传感器芯片的低温测试，则可启用超低温制冷模块，配合专用载冷剂实现低温环境模拟。通过模块的灵活组合，同一台直冷机可满足多种测试场景的温控需求。

　　在系统扩展方面，模块化设计支持通过增加模块数量实现系统容量的线性扩展。当生产规模扩大导致温控负载增加时，可在原有系统基础上增加制冷模块与循环模块，通过控制模块的扩容程序实现多模块协同运行。直冷机的标准化接口设计使其具备良好的兼容性，可与不同的半导体设备实现无缝对接。

薄膜沉积直冷机的模块化设计通过功能单元的标准化与可扩展性，实现了对不同生产需求的灵活适配。从单模块的准确控制到多模块的协同运行，从实验室小批量测试到工厂大规模生产，模块化设计均能提供稳定可靠的温控解决方案。