半导体薄膜沉积冷水机温控系统研究：热力学调控机理、等离子体稳定性优化

2025 年 7 月 10 日 36

在半导体薄膜沉积工艺中，温度控制是确保薄膜质量的核心要素之一。薄膜沉积冷水机CVD chiller通过准确调控反应腔室、靶材及相关部件的温度，为薄膜生长提供稳定的热力学环境，其应用原理与薄膜沉积的物理化学过程相关。

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涂胶显影直冷机热控系统多尺度研究：工艺级温度场优化与设备级稳定性控制

2025 年 7 月 10 日 37

在半导体涂胶显影工艺中，温度是影响产品质量与工艺稳定性的核心参数之一。涂胶显影过程涉及光刻胶的涂布、曝光、显影等步骤，每一步骤对温度变化的要求较高，涂胶显影直冷机通过准确调控温度，为工艺提供稳定的热环境。

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