半导体Chiller设备的面向半导体制造过程的解决方案

2025 年 7 月 25 日新闻中心行业新闻半导体chiller设备半导体控温190

　　在半导体制造过程中，单一工艺环节往往涉及多个温控点，且各温控点的需求存在差异。半导体 Chiller 设备通过模块化设计与协同控制逻辑，实现了对多个温控目标的准确管理，为复杂工艺场景提供了温度解决方案。

　　一、物理隔离与协同运行的平衡

　　半导体Chiller设备的核心在于各通道具备完整的温控能力，同时共享部分辅助系统以优化空间。这种架构设计既保证了温控精度，又避免了设备体积的过度膨胀。从硬件结构来看，每个通道均配备单独的制冷循环、加热模块与温度传感器，形成完整的闭环控制单元。双通道设备包含两套压缩机、换热器与循环泵，分别对应两个温控目标。这种物理隔离确保了通道间无温度干扰，即使某一通道处于低温制冷状态，另一通道仍可稳定输出高温介质。同时，设备通过共享冷凝器、冷却水管路等辅助组件，减少了重复配置，节省了车间安装空间。

　　二、算法协同与动态响应

　　半导体Chiller设备的核心在于如何在保证各通道单独控温的同时，实现整体系统的稳定运行。这需要通过分层控制算法与动态资源分配机制，平衡各通道的调节需求。在基础控制层面，各通道采用单独的PID算法，根据自身设定温度与实际温度的偏差进行调节。对于高精度需求场景，算法可升级为串级控制，主回路监控被控对象的实际温度，从回路调节Chiller的输出温度，通过两级反馈进一步缩小偏差。针对多通道同时调节可能导致的能源分配冲突，设备引入动态负载管理机制。当多个通道同时处于高负载状态时，系统会根据预设优先级调整压缩机运行功率，确保关键通道的温控精度。

　　三、工艺适配能力：灵活配置与场景兼容

　　半导体制造的不同工艺对多通道控温的需求有所差异，设备需通过可定制的通道参数与接口设计，适配从简单并行测试到复杂集成制造的各类场景。在参数配置方面，多通道设备支持各通道单独设定温度范围、流量与压力。三通道设备可同时配置三个温度区间，分别对应芯片测试的不同阶段。流量调节通过变频泵实现，可根据负载需求在范围内连续调整，即使各通道的管路阻力不同，仍能通过压力补偿保持设定流量稳定。这使单一设备可满足多步骤工艺需求，减少了设备更换带来的停机时间。在接口与集成方面，多通道设备配备标准化通信协议，可与半导体制造执行系统对接，实现远程参数设定与数据采集。

　　四、稳定性保障

　　多通道设备的稳定性直接影响整体工艺的连续性，通过冗余配置与故障隔离技术，可降低单点故障对系统的影响。在关键部件方面，循环泵配置主备两套，当主泵出现故障时，备用泵可自动启动，确保介质循环不中断；温度传感器采用双重校验机制，两套传感器数据交叉比对，若偏差超过阈值则触发警告，避免错误数据导致的调节失误。这种设计使设备的平均无故障运行时间延长，满足半导体制造的连续生产需求。

半导体Chiller设备通过架构优化、算法协同与灵活配置，解决了半导体制造中多温控点的差异化需求问题。随着半导体工艺向更高集成度发展，半导体Chiller设备会为复杂制造场景提供更可靠的温度支持。