帕尔贴Chiller

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冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃，专为半导体行业度身定制；

基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制；

对于静电卡盘(ESC)动态的温度控制，使得其能够应用于所有类型的刻蚀工艺；

快速和精确的温度控制，能够满足任何严苛的工艺要求；

高效节能，节省空间，同时还能够稳定的控制温度。

25000㎡

生产车间

超3亿

年产值

16000+

服务客户提供控温解决方案

面板系列Chiller

特点一

温度范围：-20~+90℃，控温精度±0.1℃

特点二

温度漂移保护功能使得刻蚀的轮廓更加稳定

特点三

改善Wafer-Wafer的稳定性

特点四

低能耗，没有压缩机和制冷剂的系统，同时只有在有负载时输出，大幅度降低能耗

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帕尔贴Chiller

型号		TEC-1200W	TEC-2500W	TEC-4500W
温度范围		-20℃~90℃
控温精度		±0.1℃
制冷能力	20℃	1200W	2450W	4500W
	10℃	900W	1925W	3500W
	0℃	600W	1400W	2600W
	-10℃	350W	875W	1600W
	-20℃	80W	350W	700W
制热能力		＞3000W	＞6000W	＞12000W
泵类型		直流磁力泵
压力（bar）		≤4
流量		15L/min at 2bar
流体		Galden HT135
冷却水温度		DI＜20℃
冷却水流量		≥12L/min	≥20L/min	≥32L/min
CDA开启温度		＜30℃
CDA压力		0.5-0.8bar
CDA流量		2-3m³/h
CDA露点温度		≤30℃
电源电压		AC208V,三相电压

LNEYA 帕尔贴热电的CHILLER温度范围从-20到90℃,专为半导体行业度身定制-20℃90℃
快速和精确的温度控制，能够满足任何严苛的工艺要求基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，lneya帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制。对于静电卡盘(ESC)动态的温度控制，使得其能够应用于所有类型的刻蚀工艺。高效节能，节省空间，同时还能够稳定的控制温度

LNEYA 帕尔贴热电的CHILLER有五款款型号可选，为晶圆蚀刻工艺提供可靠和精确的温度控制

重要功能和优势
·高可靠性和低使用成本
·工业空间占用率小
·极低的导热液填充量
·低能耗，没有压缩机和制冷剂的系统，同时只有在有负载时输出，大幅度降低能耗
制热、直冷时，冷热部件没有与导热液直接接触
·动态控温，精准控制过程温度，快速温度响应
·温度漂移保护功能使得刻蚀的轮廓更加稳定
·改善Wafer-Wafer的稳定性
·模块化部件使得维修更加方便
·使用全氟液体